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德國(guó)MLase準(zhǔn)分子激光器MLI 500 ARF

德國(guó)MLase準(zhǔn)分子激光器MLI 500 ARF工作環(huán)境
ArF 準(zhǔn)分子激光器通常被用于需要高能量、高分辨率和微米級(jí)別的精確度的應(yīng)用領(lǐng)域

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-16
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產(chǎn)品詳情
品牌Mlase

德國(guó)MLase準(zhǔn)分子激光器MLI 500 ARF工作環(huán)境

MLase是紫外光醫(yī)療和工業(yè)產(chǎn)品供應(yīng)商。自2007成立以來(lái),MLase一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)創(chuàng)新型高質(zhì)量激光和光系統(tǒng),這是高度專業(yè)化的專家團(tuán)隊(duì)多年經(jīng)驗(yàn)的結(jié)晶。MLase AG 為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,同時(shí)考慮到新的技術(shù)。MLase AG的質(zhì)量管理符合ISO 13485:2016標(biāo)準(zhǔn)。

 

"ARF" 在激光技術(shù)中通常是指氬氟化物激光器,屬于準(zhǔn)分子激光器的一種。ArF 激光器使用氬氟化物(ArF)氣體作為激光介質(zhì),通常在紫外光區(qū)域產(chǎn)生激光。

ArF 激光器的工作波長(zhǎng)通常在193納米附近,這個(gè)波長(zhǎng)范圍對(duì)于許多應(yīng)用非常重要。例如,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,ArF 激光器被廣泛應(yīng)用于光刻技術(shù),用于將圖形圖案投影到半導(dǎo)體芯片上,以便進(jìn)行微影和制造。

設(shè)計(jì) ArF 準(zhǔn)分子激光器需要考慮到氬氟化物的化學(xué)特性以及紫外光的高能量特性。工作環(huán)境對(duì)于ArF激光器同樣也具有重要意義,通常需要保持在高度潔凈、低振動(dòng)、低溫度變化和低濕度的條件下。

ArF 準(zhǔn)分子激光器通常被用于需要高能量、高分辨率和微米級(jí)別的精確度的應(yīng)用領(lǐng)域,比如半導(dǎo)體制造、激光微加工、科學(xué)研究等。

 

Mlase MLI 500 ARF準(zhǔn)分子激光器

參數(shù):ArF

波長(zhǎng)(納米):193

最大。重復(fù)率 (Hz)500

穩(wěn)定的脈沖能量(mJ)6

穩(wěn)定的脈沖功率(W)3,0

能量穩(wěn)定性 (sigma, %)2

光束尺寸 (FWHM, V x H mm)6x3

光束發(fā)散(FWHMV x H mrad):2x1

脈沖持續(xù)時(shí)間(FWHM)(ns):5-10

 

型號(hào)示例:

Mlase準(zhǔn)分子激光器MLI 500 ARF

Mlase準(zhǔn)分子激光器MLI 500 KRF

Mlase準(zhǔn)分子激光器MLI 200 KRF

Mlase準(zhǔn)分子激光器MLI 1000 KRF

Mlase準(zhǔn)分子激光器MLI 200 ARF

Mlase準(zhǔn)分子激光器MLI 1000 ARF

德國(guó)MLase準(zhǔn)分子激光器MLI 500 ARF工作環(huán)境


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